產(chǎn)物分子分解形成氣相； 5.反應(yīng)殘余物與表面分離。產(chǎn)生等離子體的裝置將兩個(gè)電極安裝在密閉容器中以產(chǎn)生電場(chǎng)，等離子蝕刻氣體要求并使用真空泵達(dá)到一定的真空度。電場(chǎng)起作用并且它們碰撞形成等離子體。這些離子具有高反應(yīng)性，它們的能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，從而在暴露的表面上引起化學(xué)反應(yīng)。不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)。產(chǎn)生氣體達(dá)到清洗效果；腐蝕性氣體等離子具有良好的各向異性，可以滿足蝕刻的需要。

中等長(zhǎng)時(shí)間（15分鐘或更長(zhǎng)）的等離子處理不僅激活了材料表面，蝕刻氣體的作用而且還對(duì)其進(jìn)行了蝕刻，從而產(chǎn)生了很強(qiáng)的潤(rùn)濕性。 2、清洗金屬表面：金屬表面常存在油脂、油污等有機(jī)污染物和氧化層。在濺射、粘合、焊接、噴漆、PVD 和 CVD 涂層之前用等離子清潔劑處理的完全清潔、無(wú)氧化物的表面。等離子清洗機(jī)處理后，您將獲得以下效果：它徹底清潔了表面的有機(jī)污染物，并徹底清除了焊縫中殘留的助焊劑，以防止腐蝕。

粉末或粉末等離子表面活化處理設(shè)備，蝕刻氣體的作用滾筒等離子清洗機(jī)，取決于處理材料和操作特性。轉(zhuǎn)鼓結(jié)構(gòu)的等離子清洗機(jī)與內(nèi)部結(jié)構(gòu)的家用轉(zhuǎn)鼓清洗機(jī)相似。被注入的物體在等離子體裝置中不斷地旋轉(zhuǎn)和攪動(dòng)，并與裝置中的等離子體反應(yīng)進(jìn)行清洗、活化和蝕刻。 ..以表面改性為目的。二、粉末粒子等離子表面清洗及活化劑的注意事項(xiàng) 1、電極及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì) 電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)與電源密切相關(guān)。重要的是它是電容放電形式還是耦合放電形式。

（1）等離子表面處理的優(yōu)點(diǎn)：等離子溫度比較低，蝕刻氣體的選擇不會(huì)造成產(chǎn)品色差或變形，使用和維護(hù)成本很低，安全可靠，環(huán)保和人。 (2)等離子表面處理的缺點(diǎn)：初期資金投入成本高，一次大氣壓噴射等離子處理的面積一般為40～80mm。 3 等離子表面處理試驗(yàn) 3-1 PP等離子表面處理前水滴的接觸角為84度。 3-2PP等離子表面處理后的水滴接觸角為50度。

等離子蝕刻氣體要求

加工后可大大提高物體表面的附著力，可印刷、涂膠、噴涂各種材料。 YC-080-A等離子平面磨床是一款體積小、重量輕、價(jià)格實(shí)惠、單噴嘴、操作簡(jiǎn)單的等離子火焰加工機(jī)，受到廣大客戶的一致推薦。

此外，它還會(huì)在材料表面引起交聯(lián)反應(yīng)。所謂交聯(lián)，主要是指表面經(jīng)過(guò)自由基復(fù)合后形成網(wǎng)狀交聯(lián)層。接下來(lái)，在等離子體表面修飾過(guò)程中引入極性基因序列。放電控制對(duì)材料表面的活性粒子和自由基的結(jié)合產(chǎn)生反應(yīng)，并引入高活性的極性基因。經(jīng)過(guò)上述處理后，對(duì)材料表面進(jìn)行改性，提高材料分子的附著力，提高材料加工轉(zhuǎn)化的便利性。一般來(lái)說(shuō)，一個(gè)產(chǎn)品的表面不太容易膠合和印刷圖形。經(jīng)過(guò)等離子表面改性處理后，這部分產(chǎn)品的外觀可以描述，更容易加工。

3、工藝參數(shù)等離子表面清洗性能_材料表面清洗、活化、蝕刻、涂層等離子表面清洗設(shè)備的運(yùn)行特點(diǎn)是活化結(jié)合能的交聯(lián)效應(yīng)、對(duì)材料表面的沖擊物理效應(yīng)、新化學(xué)是一個(gè)陣型。官能團(tuán) 包括材料表面清潔、活化、蝕刻和涂層四大特性。一、等離子清洗設(shè)備的特點(diǎn)——表面清洗，顧名思義，就是去除產(chǎn)品表面的污染物，主要是對(duì)普通水基清洗設(shè)備無(wú)法徹底清洗的污染物進(jìn)行清洗。弱結(jié)合面和典型-CH 基氧化物和污染物，為下一步做好準(zhǔn)備。

正確選擇氣體的成分和比例，使用合適的激發(fā)頻率，調(diào)整不同的輸出量、真空度、處理時(shí)間等，可以達(dá)到強(qiáng)大的處理效果。 2、除氧氣外，還可使用其他氣體來(lái)提高蝕刻速率。在大多數(shù)情況下，可以使用四氟化碳。在這個(gè)過(guò)程中四氟化碳產(chǎn)生的自由基超過(guò)了氧等離子體的活性。但是，當(dāng)四氟化碳的比例達(dá)到某個(gè)臨界點(diǎn)時(shí)，活性逐漸降低，因此必須用適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾器控制這些反應(yīng)氣體。

蝕刻氣體的選擇

在真空室中，蝕刻氣體的選擇高頻電源在恒壓下產(chǎn)生高能混沌等離子體，等離子體與被洗物表面碰撞。達(dá)到清潔的目的。一般來(lái)說(shuō)，清洗/蝕刻意味著去除干擾物質(zhì)。清潔效果的兩個(gè)例子是去除氧化物以提高釬焊質(zhì)量，以及去除金屬、陶瓷和玻璃、陶瓷和塑料（聚丙烯、聚四氟乙烯等）塑料表面的有機(jī)污染物。通過(guò)去除改善粘合特性。由于它們固有的非極性，這些材料在粘合、涂漆和涂層之前進(jìn)行了表面活化。