200-300W,CCP等離子體去膠機(jī)清洗時(shí)間300-400s,氣體流量500sccm,可有效去除金導(dǎo)體厚膜基板導(dǎo)帶的有機(jī)污染物。厚膜基板的導(dǎo)帶在射頻等離子清洗之后。有機(jī)污染物的淡黃色區(qū)域已完全消失,表明有機(jī)污染物已被去除。去除外殼表面的氧化層。布線混合電路通常用于提高電路的布線能力。厚膜將基體金屬焊接到外殼上。如果不去除外殼的氧化層,焊縫的氣孔率會(huì)增加,基板與外殼之間的熱阻會(huì)增加,散熱和可靠性會(huì)提高。

CCP等離子體去膠機(jī)

2.2.2 等離子處理能力意大利的OCCHIELLO研究了低溫等離子處理能力對(duì)時(shí)效性的影響[5]。提高等離子體處理功率,CCP等離子體去膠機(jī)提高等離子體中的能量密度,可以加速等離子體與高分子材料表面的反應(yīng),增加高分子材料表面的氧含量,產(chǎn)生交聯(lián),是有利的。反應(yīng)。性愛(ài)會(huì)很慢。 2.2.3 等離子處理時(shí)間 等離子處理時(shí)間的長(zhǎng)短也影響被處理材料表面的動(dòng)態(tài)特性。

同時(shí),CCP等離子表面處理設(shè)備C2H6 本身與高能電子之間的非彈性碰撞很可能導(dǎo)致其 CC 鍵斷裂,從而形成中間基網(wǎng)格,作為 CH4 形成的基礎(chǔ)。因此,與等離子等離子體下的純 C2H6 脫氫相比,C2H6 的轉(zhuǎn)化率和 C2H2、C2H4 和 CH4 的產(chǎn)率隨著 H2 濃度的增加而顯著增加。將 H2 施加到 C2H6 的力的優(yōu)點(diǎn)之一是它抑制了碳沉積物的形成。

根據(jù)高(3-26)能電子的能量,CCP等離子表面處理設(shè)備碰撞導(dǎo)致乙烷分子的動(dòng)能或內(nèi)能增加,后者裂解乙烷的 CH 和 CO 鍵以產(chǎn)生各種自由基。 C2H6+ e * → C2H5 + H + e (3-27) C2H6 + e * → 2CH3 + e (3-28) 表3-1中的化學(xué)鍵解離能數(shù)據(jù)顯示反應(yīng)式(3-28)(CC鍵) . (Cut) 比方程 (3-27) (CH 鍵斷裂) 更容易。

CCP等離子表面處理設(shè)備

CCP等離子表面處理設(shè)備

需要注意的是,如果等離子處理設(shè)備的產(chǎn)量顯著增加,等離子處理設(shè)備等薄膜材料的成分在相同的產(chǎn)量下會(huì)有所不同,所達(dá)到的處理效果也會(huì)有很大的不同。等離子活化的處理能力、等離子強(qiáng)度、薄膜本身的成分和添加劑,以及一些添加劑。等離子活化活化和蝕刻對(duì)HDPE薄膜表面的改性可以起到很好的作用。它可以提高HDPE薄膜的親水性,并在HDPE薄膜表面打開cc和CH。

CF4:藍(lán)色 SF6:淺藍(lán)色 SiF4:淺藍(lán)色 SiCl4:淺藍(lán)色 Cl2:淺綠色 CCl4:淺綠色 H2:粉紅色 O2:淺黃色 N2:紅色至黃色 Br2:紅色 He:紅色至紫色 Ne:紅磚 Ar:深色red 即維護(hù) 與施加的真空度、施加的功率、激發(fā)頻率、電極結(jié)構(gòu)、氣體種類等環(huán)境有關(guān)。 等離子清洗機(jī)中各種氣體的清洗效果等離子清洗機(jī)中各種氣體的清洗效果是由于等離子清洗工藝的材料和要求的不同。

改善元件層、涂層性能,或多個(gè)元件之間的結(jié)合性能,其可靠性主要是由于等離子表面活化劑對(duì)材料表面的物理化學(xué)性質(zhì)的影響。活性,改善兩個(gè)表面之間的潤(rùn)濕和附著力。隨著低溫等離子技術(shù)的改進(jìn)和清洗設(shè)備特別是常壓清洗設(shè)備的發(fā)展,清洗成本將不斷降低(低),清洗效率可以進(jìn)一步提高。等離子表面清潔技術(shù)。該活化劑具有多種材料加工方便、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。

使用增粘劑(底漆)或溶劑型工藝既不環(huán)保也不便宜。用工業(yè)等離子清洗設(shè)備對(duì)膠面進(jìn)行預(yù)處理和微清洗后,用戶可以使用無(wú)溶劑的UV膠和水溶性材料。有效活化工業(yè)等離子清洗設(shè)備的表面,因此也能結(jié)合不相容的物質(zhì)。因此,粘合劑可以粘附在其他難以粘合的表面(例如非極性塑料)上,并且可以用化學(xué)底漆進(jìn)行預(yù)處理?;蛘?,它消除了對(duì)表面拋光和沖洗的需要。這也避免了制造過(guò)程中揮發(fā)性碳?xì)浠衔?(VOC) 的排放。現(xiàn)代產(chǎn)品需要高質(zhì)量的涂層。

CCP等離子表面處理設(shè)備

CCP等離子表面處理設(shè)備

(3)調(diào)動(dòng)全體員工的積極性,CCP等離子體去膠機(jī)提高操作人員和用戶的參與意識(shí),做好日常操作記錄和輪班工作。 (四)加強(qiáng)業(yè)務(wù)技術(shù)培訓(xùn),全面提高運(yùn)維人員業(yè)務(wù)素質(zhì)。了解設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理、技術(shù)性能和使用方法,從根本上防止因使用不當(dāng)而損壞設(shè)備。正確使用和正確使用設(shè)備可以顯著延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命,降低企業(yè)投資成本。 1.2 維護(hù)保養(yǎng) (1)加強(qiáng)設(shè)備維護(hù)保養(yǎng),嚴(yán)格遵守“保養(yǎng)維護(hù)、補(bǔ)修”的設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)規(guī)則。