-等離子清洗設(shè)備已成為提高產(chǎn)品收率的重要手段-等離子清洗設(shè)備已成為提高產(chǎn)品收率的重要手段等離子氣體化學(xué)品是指具有原子、分子、離子、激發(fā)態(tài)的全部或部分離子氣體化學(xué)品。電子、陽離子和陰離子的含量基本相同。化學(xué)物質(zhì)的能量很高，F(xiàn)CBplasma去膠機(jī)往往會(huì)與其他化學(xué)物質(zhì)發(fā)生物理、化學(xué)和生理反應(yīng)。等離子技術(shù)，尤其是低溫峰等離子清洗設(shè)備技術(shù)，在復(fù)合材料表面改性的研究中非?；钴S，其應(yīng)用尤為普遍。

, 油漆剝落、焊接不牢、密封不良、漏氣等。等離子清洗設(shè)備有哪些特點(diǎn)？ 1、環(huán)保技術(shù)：-等離子清洗裝置的工作過程是氣相干反應(yīng)，F(xiàn)CBplasma去膠機(jī)不消耗水資源，不需要添加化學(xué)藥品。 2. 效率高：全程可完成。短時(shí)間內(nèi)，3。成本低：設(shè)備簡單，操作維護(hù)方便，使用少量氣體代替昂貴的清洗劑，無廢液成本。四。操作更精細(xì)。您可以侵入微小的孔洞和孔洞來完成清潔過程。五。應(yīng)用范圍廣泛：-等離子清洗設(shè)備應(yīng)用范圍廣泛，因?yàn)樗梢蕴幚泶蠖鄶?shù)固體化學(xué)品。

2、等離子清洗機(jī)正式使用前，F(xiàn)CBplasma去膠機(jī)必須正確設(shè)置操作參數(shù)，并按照設(shè)備使用說明書仔細(xì)操作，不能隨意使用。 3、等離子點(diǎn)火器必須保護(hù)好，使等離子清洗機(jī)正常開啟。否則，將難以打開或打開異常。 4、如果一次風(fēng)道不通風(fēng)，必須確保等離子清洗機(jī)的運(yùn)行時(shí)間在規(guī)定時(shí)間內(nèi)，不超過設(shè)備說明書規(guī)定的時(shí)間。否則，燃燒器將被破壞。 ，帶來很多不便。必需的損失。5、進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)。等離子清洗機(jī)的保養(yǎng)和維護(hù)。關(guān)閉電源時(shí)，先關(guān)閉電源，再關(guān)閉電源。

DBD是一種高壓操作，F(xiàn)CBplasma去膠機(jī)具有大空間均勻放電，包括輝光放電和電暈放電，工作在高壓和寬頻率范圍內(nèi)。這是典型的非平衡交流氣體放電。在常壓下可產(chǎn)生大量能量密度高的低溫等離子體，無需真空裝置即可獲得低溫改性所需的活性粒子。有特殊的物理過程，如光、熱、聲和電。化學(xué)過程很容易實(shí)現(xiàn)大規(guī)模的連續(xù)工業(yè)運(yùn)行。

FCBplasma表面處理設(shè)備

使用等離子體可以有效去除精密零件表面的雜質(zhì)顆粒，主要是利用等離子體的廣域輻照效應(yīng)和沖擊波效應(yīng)。脈沖能量有效地傳遞給基板材料和表面的雜質(zhì)粒子，基板和粒子的熱膨脹程度不同，因此將兩者剝離。等離子體處理產(chǎn)生的巨大沖擊力進(jìn)一步克服了顆粒與基板表面之間的吸附力，實(shí)現(xiàn)了雜質(zhì)顆粒的完全去除。

因此，如果等離子發(fā)生器僅使用13.56MHZ射頻電源，腔容量一般可以控制在600L以內(nèi)，以保證均勻性。如果您需要使用3000W以上的功率，我們推薦使用美國AE、MKS或其他進(jìn)口射頻電源。成本相對(duì)較高，但設(shè)備運(yùn)行更穩(wěn)定?？煽啃院鸵恢滦缘玫奖ＷC。對(duì)于高工件均勻度，建議使用40KHZ中頻電源或 L內(nèi)真空室。前后排進(jìn)氣方式有助于提高其均勻性。

聚苯硫醚 1/2 倍，片狀環(huán)氧樹脂 (Dexter-HgsolEA9330) 1/2 倍，片狀環(huán)氧樹脂 (Dexter-HgsolEA9330) 1/2 倍，所有樣品處理時(shí)間都與粘合強(qiáng)度和水接觸角有關(guān) 4% O2 / 96% CF4處理5分鐘，水鍵溫度高出104°，但鍵強(qiáng)度高達(dá)980 psi，真實(shí)可重復(fù)。先說明原因。這是因?yàn)楸砻嬗泻芏郈F2水，很難弄濕。

等離子體的“活性”成分包括離子、電子、原子、反應(yīng)基團(tuán)、激發(fā)核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔劑利用這些活性成分的特性來處理樣品表面和清洗、涂裝等等離子產(chǎn)生條件：有足夠的反應(yīng)氣體和反應(yīng)壓力，反應(yīng)產(chǎn)物必須能夠在足夠的能量供給下高速撞擊被清洗物體表面，反應(yīng)后產(chǎn)生的物質(zhì)易揮發(fā)且細(xì)小。組合。排出泵以方便抽真空，泵必須有足夠的容量和速度，以快速排出反應(yīng)的副產(chǎn)物，并且必須迅速補(bǔ)充反應(yīng)所需的氣體。我有。

FCBplasma表面處理設(shè)備