由于干法清洗不能破壞芯片的表面特性和電導(dǎo)率，測(cè)定漆膜附著力試驗(yàn)所以可以去除污染物，所以在許多清洗方法中有明顯的優(yōu)勢(shì)，等離子清洗機(jī)具有明顯的優(yōu)勢(shì)，具有操作簡(jiǎn)單、控制精確、無(wú)需加熱處理等優(yōu)點(diǎn)。整個(gè)過程無(wú)污染，安全可靠，在先進(jìn)包裝領(lǐng)域得到了廣泛的推廣和應(yīng)用。。

等離子等離子體清潔器（等離子清洗器），測(cè)定漆膜附著力試驗(yàn)又稱等離子清洗器，或等離子表面治療儀，是一項(xiàng)全新的高科技技術(shù)，利用等離子體達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫物質(zhì)的第四態(tài)，不屬于常見的固、液、氣三種狀態(tài)。施加足夠的能量使氣體電離，就變成了等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性”成分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)核素、光子等。

3.金屬半導(dǎo)體工藝中常見的金屬雜質(zhì)有鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀、鋰等，測(cè)定漆膜附著力試驗(yàn)這些雜質(zhì)主要來自各種器皿、管材、化學(xué)試劑，以及半導(dǎo)體晶圓加工過程中的各種金屬污染。這類雜質(zhì)的去除常采用化學(xué)方法進(jìn)行。由各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與金屬離子反應(yīng)形成金屬離子絡(luò)合物，從晶片表面分離出來。4.氧化物暴露在氧氣和水中的半導(dǎo)體晶片表面會(huì)形成自然氧化層。

等離子體被稱為“物質(zhì)的第四態(tài)”。我們通常對(duì)物質(zhì)的認(rèn)知和接觸狀態(tài)有三種:氣、液、固三種狀態(tài)之間的轉(zhuǎn)換，測(cè)定漆膜附著力試驗(yàn)無(wú)論同一物質(zhì)同時(shí)含有能量，三種狀態(tài)之間的轉(zhuǎn)換，最低能態(tài)是固體，固體吸收能轉(zhuǎn)化為液體，液體吸收能轉(zhuǎn)化為氣體，氣體是三種能量最高的狀態(tài)。氣相吸收更多的能量，形成物質(zhì)的第四種狀態(tài)，即等離子體。

測(cè)定漆膜附著力常用方法

氣體可以分解并最終釋放出CO2和H2O等無(wú)害物質(zhì)，同時(shí)清新空氣。。冷等離子處理設(shè)備是真空等離子清洗機(jī)放電等特殊場(chǎng)合產(chǎn)生的氣體分子質(zhì)量。等離子清洗/蝕刻 產(chǎn)生等離子的裝置將兩個(gè)電極設(shè)置在密閉容器中形成電磁場(chǎng)，并利用真空泵達(dá)到一定的真空度。時(shí)間越長(zhǎng)，就越容易受到磁場(chǎng)的影響。在現(xiàn)場(chǎng)，它們碰撞形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)中在空間中運(yùn)動(dòng)，撞擊待處理表面，達(dá)到表面處理、清洗、蝕刻的效果。。

就碰撞的類型而言，等離子體清洗機(jī)中的粒子間的碰撞主要能夠分為彈性碰撞和非彈性碰撞兩種，我們先來了解一下等離子體清洗機(jī)中的彈性碰撞：等離子體清洗機(jī)中的彈性碰撞通常是指一種碰撞類型，通常表現(xiàn)為在碰撞的過程中粒子的總動(dòng)量守恒，總動(dòng)能守恒，參與碰撞的粒子內(nèi)能不變，沒有新的粒子或光子產(chǎn)生，只改變粒子速度，發(fā)生動(dòng)量和動(dòng)能轉(zhuǎn)換。

材料表面等離子體處理的意義有效去除物體表面的有機(jī)污染物和氧化物是常規(guī)清洗機(jī)無(wú)法達(dá)到的處理效果。等離子體表面處理機(jī)的主要特性一般來說，傳統(tǒng)濕洗法清洗后，表面會(huì)有殘留物，只有等離子體表面處理器才能完全凈化表面，獲得超高潔凈度的表面，等離子體處理后的材料表面僅作用于材料的納米表面，不改變材料原有特性，賦予其另一特性，在對(duì)表面潔凈度要求較高的工藝中，替代濕處理工藝被廣泛使用。

與過去的植絨選用的使用溶劑型膠水清洗相比，等離子清洗機(jī)外表處理方式具有以下優(yōu)勢(shì)︰a、能夠達(dá)到條狀、平面、曲面、箱體等多種不規(guī)則形狀的清洗要求，清洗更為均勻，不會(huì)出現(xiàn)大面積倒伏和色差問題。b、使用易上手，無(wú)環(huán)境污染、無(wú)有害氣體。c、無(wú)揮發(fā)的刺激性氣體，不會(huì)影響技術(shù)人員的身體健康。

測(cè)定漆膜附著力試驗(yàn)