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測得的缺陷形成率是施加到柵極氧化物的電壓的冪函數(shù)。因此，故障時間與電壓的關系為TF = B0V-n (7-12)。如果氧化層足夠薄，缺陷形成率與氧化層厚度無關，但臨界缺陷密度會導致氧化層斷裂。它強烈依賴于氧化層。層厚度。對于low-k材料TDDB，也有對應的root E模型。將不同模型的擬合曲線與同一組加速 TDDB 測試數(shù)據(jù)進行比較。

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