通常認為甲烷在等離子體發(fā)生器條件下以兩種方式產(chǎn)生乙炔： 1. CH自由基偶聯(lián)反應； 2. C2H6和C2H4的脫氫反應。如果體系中CO2濃度繼續(xù)升高，特氟龍plasma活化機會消耗大量高能電子，C2H6、C2H4與高能電子碰撞的概率會不斷降低，進而發(fā)生脫氫反應。受阻，C2H4 的產(chǎn)生量進一步減少。因此，隨著體系中CO2濃度的增加，C2H6和C2H4的摩爾分數(shù)趨于增加，C2H2的摩爾分數(shù)減小。

達因值越低，特氟龍plasma表面清洗機器物體的表面能越低，等離子處理后的達因值越高，物體的表面能越高，表面能越高，吸附效果越好，鍵合效果越好。更好的涂層。效果；2。水滴角測試（測量水滴角（接觸角））可以反映等離子體是否影響產(chǎn)品加工。目前，業(yè)界對等離子清洗效果的評價。測試數(shù)據(jù)準確、操作簡便、重現(xiàn)性高、穩(wěn)定性好。等離子清洗前： 等離子清洗后：通過等離子處理去除油污和表面粗糙度。

..由于空氣污染和酸化，特氟龍plasma活化機生態(tài)環(huán)境遭到破壞，大規(guī)模災害頻發(fā)，人類損失慘重。因此，選擇經(jīng)濟可行的解決方案勢在必行。傳統(tǒng)的吸附、吸附、冷凝、燃燒等分解揮發(fā)性有機污染物（VOCs）的處理方法等低溫等離子技術在氣態(tài)污染物治理方面具有顯著優(yōu)勢。其基本原理是在電場的加速作用下產(chǎn)生高能電子。當電子的平均能量超過目標物質分子的化學鍵能時，分子鍵斷裂，達到去除的目的。氣態(tài)污染物。傳統(tǒng)意義上的等離子體是具有大量電離的中性氣體。

-PLASMA等離子表面處理機應用場景三大方面概述-PLASMA等離子表面處理機的應用場景主要概括為三個方面。 1. PLASMA等離子表面處理機提高合金金屬外表面的粗糙度。低溫等離子表面后的德布羅意波轉換器用于金屬材料加工，特氟龍plasma表面清洗機器原材料表面附著力可滿足62DAIN以上要求，可用于附著、噴漆、印刷等多種加工工藝。 , 也可以對應靜電去除效果。提高合金金屬表皮的耐腐蝕性。

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此外，這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著提高清洗效率。整個清洗過程可在幾分鐘內完成，其特點是良率高。 6、等離子清洗需要控制的真空度在100PA左右，這個清洗條件很容易達到。因此，該設備的設備成本不高，整體成本低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝，因為該清洗工藝不需要使用昂貴的有機溶劑。 7.等離子清洗通過清洗液的輸送、儲存、排水等處理方式，可以輕松保持生產(chǎn)現(xiàn)場的清潔衛(wèi)生。

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