ICP刻蝕輝光放電產(chǎn)生的活性所產(chǎn)生的活性粒子擴(kuò)散到襯底表面,陜西電暈電暈機(jī)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),會(huì)產(chǎn)生一些不揮發(fā)的產(chǎn)物,來(lái)不及在襯底表面解吸沉積。此外,一些離子對(duì)襯底產(chǎn)生物理轟擊撞擊破壞表面晶格陣列,導(dǎo)致基材表面出現(xiàn)孔洞和坑洞,造成材料表面質(zhì)量的下降。同時(shí),由于硅和碳化硅的存在,使得原襯底表面的結(jié)構(gòu)不均勻。
雖然在電暈中使用純氫清洗表面氧化物是有效的,陜西電暈電暈機(jī)但這里主要考慮放電的穩(wěn)定性和安全性,氬氫混合物更適合于電暈應(yīng)用。此外,對(duì)于容易氧化或還原的材料,電暈還可以顛倒氧氣和氬氫氣的清洗順序,達(dá)到徹底清洗的目的。氣體在電暈中的應(yīng)用實(shí)例;1.金屬表面除油清洗:金屬表面常存在油脂、油污、氧化層等有機(jī)物。
排放距離為8mm時(shí),陜西電暈電暈機(jī)廠(chǎng)家哪家好C2烴產(chǎn)率為19.8%。一方面,隨著電極間距的增大,放電空間增大,延長(zhǎng)了甲烷在放電空間的停留時(shí)間;另一方面,隨著放電空間的增大,在輸入能量不變的前提下,電極間電場(chǎng)強(qiáng)度減小,高能電子的平均能量減弱,即傳遞給單個(gè)甲烷分子的能量減弱。
這些高能電子與氣體中的分子、原子碰撞,陜西電暈電暈機(jī)如果電子的能量大于分子或原子的激發(fā)能,就會(huì)產(chǎn)生激發(fā)分子或原子的不同能量的自由基、離子和輻射。低溫電暈中活性粒子(可能是化學(xué)活性氣體、惰性氣體或金屬元素氣體)的能量通常接近或超過(guò)C-C鍵或其他含C鍵的鍵的能量。通過(guò)離子轟擊或注入聚合物表面,產(chǎn)生斷裂鍵或官能團(tuán),使表面活化,從而達(dá)到改性的目的。
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如-0、-00等。還有的在材料表面引入了胺基團(tuán)。材料表面生成自由基或官能團(tuán)后,可與其他聚合物單體發(fā)生接枝反應(yīng)(即材料表面形成的自由基或官能團(tuán)引發(fā)單體分子與其相互作用)或聚合,或直接將生物活性分子固定在材料表面。在低溫電暈中,由于離子、自由電子、自由基的存在,它提供了常規(guī)化學(xué)反應(yīng)器所不具備的化學(xué)反應(yīng)條件,不僅能分解原氣體中的分子,還能使許多有機(jī)單體產(chǎn)生聚合反應(yīng)。
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