大氣電暈技術的突出優(yōu)點是：1.可制備致密電極和結晶度高、晶界純的固體電解質；2.能加快晶體生長速度；3.能減少納米級材料生長過程中的團聚；4.反應體系或材料底物的溫度可以（降低）；5.可輔助沉積電極或隔膜表面的薄膜材料和涂層；6.能減少反應中的副產物和雜質；7.可通過輔助沉積實現材料的表面包覆8.清潔表面（活），電暈處理機薄膜電暈處理機提高材料表面的潤濕性。

整個清洗過程可在幾分鐘內完成，薄膜電暈處理設備因此具有收率高的特點；9.在完成清洗去污的同時，還能提高材料的服裝表面性能。如提高表面潤濕性、良好的薄膜附著力等，這在很多應用中都非常重要。目前電暈機的應用越來越廣泛，國內外用戶對電暈清洗的要求也越來越高。好的產品還需要專業(yè)的技術支持和維護。。電暈滅菌技術介紹當今，氣體電離電暈越來越多地應用于醫(yī)療器械或醫(yī)療器械的表面滅菌。

電暈處理后的ITO表面形貌分析表明，電暈處理機薄膜電暈處理機ITO表面的平均粗糙度和峰谷粗糙度明顯降低，使得ITO薄膜表面變得更加平坦。ITO膜與NPB的界面能降低，空穴注入能力大大增強。表面富集了一層帶負電荷的氧，形成界面偶極層，增加了ITO的表面功函數。同時，表面顆粒半徑大幅減小，使得ITO與有機層的接觸面增大，表面吸附力增大，改善了ITO膜表面的潤濕性和氧原子吸附性能，有利于獲得更加均勻的有機膜。

目前，電暈處理機薄膜電暈處理機電暈清洗技術已廣泛應用于半導體材料和光學行業(yè)。初級工業(yè)應用包括電子元器件、半導體材料、醫(yī)用等低溫電暈表面處理設備，主要由電暈、氣體管道、低溫電暈噴嘴等組成。當針尖放電時，電暈清潔器產生高壓和高頻能量，并由此產生電暈。這種電暈技術在噴嘴中被激發(fā)和控制，通過噴嘴氣體，如空氣，被注入到材料的表面。電暈技術接觸材料表面時，會產生狀態(tài)變化和化學變化。

薄膜電暈處理設備

電暈清洗設備的機理是：真空泵情況下，壓力降低，分子間距離變寬，分子間相互作用力變小，利用頻率輻射源產生的高壓交變電場，將O2、氬、氫等技術氣體沖洗成高反應性、高能量的離子，與有機污染物、微粒體污染物發(fā)生反應或碰撞，形成揮發(fā)性物質。工作氣流和真空泵去除揮發(fā)性物質，實現表層清潔活化。

哪些行業(yè)將使用低溫電暈表面處理設備：低溫電暈表面處理設備由電暈發(fā)生器、氣體輸送管道和低溫電暈噴嘴組成。電弧放電時，電暈發(fā)生器產生高壓高頻動能，從而產生電暈。這種電暈技術是在噴嘴管內激勵和控制，引入空氣等氣體在材料表面噴射電暈。當電暈技術與材料表層接觸時，會發(fā)生物理變化和化學反應。

堿對有機潤滑油有較好的皂化作用，與飽和脂肪酸形成脂肪酸鈉（皂）和甘油。飽和脂肪酸鈉是一種很好的表面活性劑，對去除有機潤滑劑有很好的效果。目前生產的脫脂劑P3-T7221主要由燃燒鈉、碳酸鈉、焦磷酸鈉、偏硅酸鈉等系列表面活性劑組成，易溶于水，清洗泡沫低，具有良好的水軟化特性。一股流的加入量為0.3-2%，溶液溫度在70～80℃之間清洗效果最好，溶液溫度在70～80℃之間清洗效果最好。

在處理過程中，電暈與材料表面的微物理化學反應（作用深度只有幾十到幾百納米，不影響材料本身的特性），可以大幅度改善材料表面，達到50-60達因（處理前一般為30-40達因），顯著增加產品與膠水的附著力。

薄膜電暈處理設備

后來的發(fā)現是，電暈處理機薄膜電暈處理機低壓下的氣態(tài)物質可以通過各種形式轉化為電暈，如電弧放電、輝光放電、激光、火焰或沖擊波等。例如，在高頻電場中處于低壓狀態(tài)的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子，在輝光放電條件下，可以分解成加速的原子和分子，從而產生電子，解離成帶正負電荷的原子和分子。這樣產生的電子在電場中加速時，會獲得高能量，與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞。因此，電子在分子和原子中被激發(fā)，它們處于被激發(fā)或離子狀態(tài)。

真空電暈特點：真空電暈是通過吸收電能對物質進行氣體相干化學處理的設備，電暈處理機薄膜電暈處理機具有節(jié)水、節(jié)能、無污染的綠色化學特點，有效利用資源，有益環(huán)保。