與濕法清洗不同，等離子表面冶金技術(shù)等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗方式。 等離子清洗一般是利用激光、微波、電暈放電、熱電離、弧光放電等多種方式將氣體激發(fā)成等離子狀態(tài)。。表面等離子刻蝕機(jī)為您晶圓硅片光刻膠去除實(shí)例： 表面等離子刻蝕機(jī)等離子體除膠法，其原理是以干等離子除膠法為主要的蝕刻性氣體。

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在復(fù)合材料制造加工中, 其表面需涂改脫模劑以使制件與模具順利分離, 但是加工后脫模劑會(huì)殘留在制件表面, 無法選用常規(guī)的清洗辦法經(jīng)濟(jì)、有效地去除, 導(dǎo)致涂裝后涂層附著力差, 涂層極易墜落, 影響制件的運(yùn)用。因此可考慮選用等離子體清洗技術(shù)經(jīng)濟(jì)、有效地去除脫模劑污染物。

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.等離子、橡膠、纖維等高分子材料在成型過程中添加的增塑劑、引發(fā)劑、殘留單體和分解劑等低分子量材料，很容易在材料表面沉淀和聚集，形成無定形層。潤(rùn)濕性等性能降低。尤其是醫(yī)用材料，小分子物質(zhì)的浸出會(huì)影響機(jī)體的正常機(jī)能。冷等離子體技術(shù)可以在高分子材料表面形成交聯(lián)層。這是小分子物質(zhì)浸出的障礙。李英格 等[10] 發(fā)現(xiàn)各種等離子體用于改性 PI、PET 和 PP 薄膜，將處理后薄膜的表面電阻降低 2-4 個(gè)數(shù)量級(jí)。

低溫等離子處理制備技術(shù)是一種新型的非熱處理技術(shù)?？捎糜谑称芳庸?。 ..該技術(shù)使用低溫等離子體技術(shù)來降低淀粉的粘度并提高其在瞬間高壓條件下的透明度。另一方面，低溫等離子淀粉加工技術(shù)是制備低粘度、高透明度的變性淀粉的常用方法。冷等離子體制備技術(shù)可用于改變淀粉的粘度和消化特性。特別適用于生產(chǎn)高濃度、低粘度的淀粉食品。

等離子表面處理在活化產(chǎn)品外表分子的一起不會(huì)對(duì)其結(jié)構(gòu)造成破壞，不管是不同種類的硅膠產(chǎn)品還是橡膠等特殊印刷資料，通過等離子表面處理，都能提高產(chǎn)品表面附著力，削減傳統(tǒng)打印方式的處理工藝，降低生產(chǎn)本錢，更能應(yīng)用在本來無法打印的資料上面，為客戶開辟新市場(chǎng)，創(chuàng)造新價(jià)值。。

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此外，等離子表面冶金技術(shù)在沉積LEP前提高ITO的功函數(shù)，可以大大提高電荷傳輸?shù)接袡C(jī)層中。為了避免噴墨分配后LEP溢出到相鄰像素的位置，需要對(duì)存儲(chǔ)槽的邊緣結(jié)構(gòu)表面采取控制。本例中的儲(chǔ)存槽的邊緣必須是不滲透的，或者是疏水。這一任務(wù)的難點(diǎn)是ITO要想獲得親水和存儲(chǔ)槽的邊緣就必須是疏水。等離子表面清洗設(shè)備能很容易地解決這些制造難題。。