硅膠表層容易被灰塵污染。制造商通常采用有機化學噴霧器來防止硅膠產品表層的污染,使其更加光滑。然而,這種加工工藝不僅成本增加,而且危及生態(tài)環(huán)境保護和人們的身心健康。
低溫等離子表面處理方法使原材料表層發(fā)生各種物理化學反應,會形成蝕刻粗化,或產生高密度的化學交聯(lián)層,或引入含氧官能團。硅膠表層經(jīng)設備處理,結果表明N2、Ar、O2、CH4-O2、Ar-CH4-O2能夠加強硅膠的潤濕性。
采用低溫等離子清洗技術,能夠改變硅膠表層的氧分子,將負表層改為正電極。其靜電感應特性低,防污性能好,適合用于眼鏡框、手表帶等高檔產品,也適合用于醫(yī)療器械和運動產品,使產品具有良好的特性。低溫等離子清洗技術適合用于合成纖維、高聚物、塑膠等原材料,也適合用于金屬材料和結構陶瓷的清潔、活性和蝕刻工藝。它是一種綠色環(huán)保的表層處理工藝,適合用于所有硅材料和相關產品。