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等離子清洗機(jī)是利用等離子體達(dá)到常規(guī)清洗所不能達(dá)到的效果,微晶玻璃絲印附著力不佳比如說(shuō)等離子體的活性組分是離子,電子和光子等組成,那么它所達(dá)到的清洗效果肯定和一般的超聲波清洗機(jī)之類的清洗產(chǎn)品是不一樣的。等離子清洗機(jī)利用這些離子和光子等活性組分來(lái)處理工件的表面,而達(dá)到清洗的目的,很顯然這樣的清洗效果要比普通的清洗來(lái)得更加的好。
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自動(dòng)化離子清洗設(shè)備采用數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;采用氣體作為清洗介質(zhì), 在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,可有效避免液體清洗介質(zhì)對(duì)清洗物體的二次污染;自動(dòng)化清洗系統(tǒng)可在工業(yè)清洗過(guò)程中實(shí)現(xiàn)機(jī)械化自動(dòng)清洗,不需人工清洗,為生產(chǎn)企業(yè)節(jié)省了大量人力,大大降低了企業(yè)用人成本、生產(chǎn)時(shí)間成本。
鉛污染治理技術(shù)目前處理鉛污染的方法主要采用紫外線或等離子清洗,這兩種方法都對(duì)鉛清洗具有獨(dú)特的適用性,并且需要根據(jù)特定的工藝進(jìn)行特定的選擇。干洗在這方面優(yōu)勢(shì)明顯,因?yàn)闈裣辞逑春髸?huì)造成環(huán)境和二次污染。等離子體中的活性粒子“活化”,可以有效去除物體表面的污染物,達(dá)到清洗的目的,即等離子體清洗。等離子是等離子清洗機(jī)的必要條件,等離子吸附在被清洗物體的表面。
超聲等離子體的自偏壓約為0V,低溫寬等離子體清洗機(jī)射頻等離子體的自偏壓約為250V,微波等離子體的自偏壓很低,只有幾十伏,三種等離子體的機(jī)理不同。超聲等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng),射頻等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng),微波等離子體的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清洗表面影響較大,因此在實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。
但從對(duì)環(huán)境的影響、原材料的消耗以及未來(lái)的發(fā)展來(lái)看,干洗明顯優(yōu)于濕法清洗。在干洗中,等離子清洗發(fā)展迅速且優(yōu)勢(shì)明顯,等離子清洗已逐漸廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)。2、等離子體清洗機(jī)的機(jī)理等離子體是一種部分電離的氣體,是除固體、液體和氣體外的第四種狀態(tài)。等離子體由電子、離子、自由基、光子和其他中性粒子組成。由于等離子體中電子、離子和自由基等活性離子的存在,它很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。
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