真空等離子清洗機(jī)的通常工藝是：首先，后噴漆附著力不好將工件固定在真空室內(nèi)，經(jīng)由真空泵等設(shè)備啟動(dòng)真空電離到十pa左右；然后將等離子清洗體：O2、H2、Ar、N2的不同氣體和清洗材料根據(jù)工藝要求導(dǎo)入真空室，并保持壓力約為 pa；在真空室內(nèi)的電極和接地裝置之間加入高頻電壓，使氣體滲進(jìn)去，等離子體被輝光放電離化；當(dāng)?shù)入x子體可以覆蓋在真空室內(nèi)后開(kāi)始清洗工作，清洗過(guò)程將持續(xù)數(shù)十秒到數(shù)分鐘。

根據(jù)清洗材質(zhì)的不同，真空鍍膜后噴漆附著力不好可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)狻⑺姆嫉葰怏w。3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體，讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩住被處理工件，開(kāi)始清洗作業(yè)，一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十分鐘不等。4）清洗完畢后切斷電源，并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出。

因此，后噴漆附著力不好加工過(guò)程中容易出現(xiàn)灰塵和（機(jī)械）污染，容易出現(xiàn)芯片損壞和短路。為了解決這些加工問(wèn)題，將真空等離子體裝置的表面處理裝置引入到后續(xù)的處理過(guò)程中進(jìn)行預(yù)處理。選擇真空等離子設(shè)備是為了更好地保護(hù)產(chǎn)品，同時(shí)又不影響晶圓表面的性能。真空等離子設(shè)備用于去除表面（機(jī)械）和雜質(zhì)。 OLED包括真空等離子清潔器TSP的作用。

用石墨球進(jìn)行定位組裝時(shí)，后噴漆附著力不好在船體表面存在大量的石墨顆粒漏(留)，為了避免石墨顆粒對(duì)產(chǎn)品的污染，必須對(duì)石墨棒進(jìn)行嚴(yán)格清洗；其次，必須對(duì)裝配定位石墨顆粒進(jìn)行嚴(yán)格清洗；其次，必須對(duì)裝配定位石墨顆粒進(jìn)行退氫處理，以減少其加工過(guò)程中石墨零件表面的其他污染物；要確保金屬部件的清潔，使用的金屬部件及焊料要嚴(yán)格清洗，組裝時(shí)戴上指套，裝配時(shí)要戴上指套。

真空鍍膜后噴漆附著力不好

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等離子體處理器技術(shù)是等離子體的具體應(yīng)用:等離子體處理系統(tǒng)生產(chǎn)的等離子體裝置是設(shè)置在一個(gè)密閉容器內(nèi)，兩個(gè)電極用真空泵形成電場(chǎng)以達(dá)到一定的真空程度，隨著氣體變得越來(lái)越薄，分子間距和自由運(yùn)動(dòng)的分子或離子之間的距離也越來(lái)越長(zhǎng),電場(chǎng),它們碰撞,形成等離子體,這些離子的活性非常高,它的能量就足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵,使化學(xué)反應(yīng)在任何暴露的表面,不同的氣體等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)，如氧等離子體具有高氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性，所以這就是蝕刻所需要的。

三、等離子清洗機(jī)適用于制藥、印染、制造、化工、化纖等行業(yè)在操作過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的揮發(fā)性有機(jī)污染物(VOCs)，傳統(tǒng)的處理方法如吸附、吸附、冷凝燃燒法，對(duì)于濃度低的VOCs難以實(shí)現(xiàn)，以及光催化降解VOCs和催化劑容易失活的問(wèn)題，使用等離子體清洗機(jī)處理VOCs不能受以上條件的限制，配合使用潛在的優(yōu)勢(shì)。

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