等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為控制單元、真空室和真空泵三部分。國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，LCDplasma表面清洗包括國(guó)外進(jìn)口，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、自動(dòng)控制、PC控制、LCD觸摸屏控制四種方法。

就以下三個(gè)部分進(jìn)行陳述:控制單元:目前國(guó)內(nèi)使用的等離子清洗機(jī)，LCDplasma表面清洗包括那些從國(guó)外進(jìn)口的，控制單元主要分為半自動(dòng)控制、自動(dòng)控制、PC電腦控制、LCD觸摸屏控制四種方式?？刂茊卧譃槟男┎糠?1)電源:電源主要有三個(gè)頻率，分別是40KHz、13.56mhz和2.45ghz，其中13.56mhz需要電源適配器，2.45ghz又被稱為微波等離子體。

一些非粘性無(wú)機(jī)氣體(Ar2、N2、H2、O2等)在高頻和低壓下被激發(fā)，LCDplasma表面清洗產(chǎn)生含有離子、被激發(fā)分子、自由基等多種活性粒子。一般在等離子體清洗中，活化氣體都可以可分為兩類，一類是惰性氣體等離子體(如Ar2、N2等);另一類是反應(yīng)性氣體等離子體(如O2、H2等)。這些活性粒子可以與表面物質(zhì)在以下反應(yīng)過(guò)程中發(fā)生反應(yīng):電離氣體分子激發(fā)態(tài)分子清洗活化表面等離子體清洗機(jī)在LCD液晶工業(yè)中的應(yīng)用等離子體產(chǎn)生原理如下。

在液晶玻璃的等離子體清洗中，LCDplasma表面活化活化的氣體是氧等離子體，它可以去除油性污垢和有機(jī)污染物顆粒，因?yàn)檠醯入x子體可以氧化有機(jī)物，形成氣體排放。唯一的問題是去除顆粒后需要添加靜電去除裝置，其清洗工藝如下:空氣-氧氣等離子體-靜電去除LCD及其電極端ITO的潔凈度和內(nèi)聚性通過(guò)干洗工藝大大提高。我公司從事等離子表面處理行業(yè)已有20年，在等離子表面處理行業(yè)積累了大量的經(jīng)驗(yàn)。歡迎新老客戶來(lái)電咨詢。。

LCDplasma表面清洗

直接噴射等離子清洗機(jī)排出的等離子能量濃度高，溫度高，更適合處理點(diǎn)線，溫度對(duì)物料表面不太敏感，可根據(jù)噴嘴的尺寸加工1mm、5mm、10mm寬。噴射旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)噴射的等離子體比較分散，溫度適中，比較適合加工表面形狀稍敏感、溫度稍敏感的材料表面，根據(jù)旋轉(zhuǎn)噴嘴的尺寸可以加工寬度為20mm、50mm、60mm、80mm等。LCD等離子清洗機(jī)采用低溫等離子弧放電技術(shù)，高效快速清洗加工。

油口必須密封，防止漏油。此外，真空泵上的氣動(dòng)擋板閥、排氣過(guò)濾器和彎頭波紋管需要單獨(dú)包裝。。本廠開發(fā)的等離子發(fā)生器可以提高IV包裝的質(zhì)量:本廠開發(fā)的等離子發(fā)生器主要用于用氧等離子清洗LCD面板。等離子體清洗去除油和有機(jī)污染物顆粒，因?yàn)檠醯入x子體可以氧化有機(jī)物并形成氣體排放。提高偏光膏的成品率，大大提高電極與導(dǎo)電膜的附著力，提高產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。等離子體發(fā)生器是一種高精度的干洗設(shè)備。

一般用作工藝氣、干燥、無(wú)油壓縮空氣。將加工過(guò)的工件與未加工過(guò)的工件浸泡在水(極性溶液)中，氧等離子清洗機(jī)溫度高，活化效果更好。對(duì)于未經(jīng)處理的零件，形成正常形狀的液滴。處理后的部件完全用水浸泡氧等離子清洗機(jī)活化玻璃陶瓷:玻璃瓶和陶瓷瓶具有類似金屬瓶的特性，等離子和反應(yīng)處理具有較短的保質(zhì)期。一般采用壓縮空氣作為工藝氣體。采用低溫等離子體對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行表面改性。

聚合物具有分子設(shè)計(jì)性，通過(guò)等離子體表面活化作用可以在表面引入不同基團(tuán)來(lái)改善其功能，如親水性、疏水性、潤(rùn)濕性、粘附性;引入生物活性分子或酶來(lái)改善其生物相容性。利用等離子體清洗機(jī)對(duì)聚合物數(shù)據(jù)表面進(jìn)行修改，不僅提高了聚合物數(shù)據(jù)在特定環(huán)境中的應(yīng)用功能，而且拓寬了常規(guī)聚合物數(shù)據(jù)的適用范圍。

LCDplasma表面活化

電暈處理技術(shù)電暈處理是一種使用高壓的物理過(guò)程，LCDplasma表面清洗主要用于薄膜處理。電暈預(yù)處理的缺點(diǎn)是表面活化能力相對(duì)較低，處理后的表面效果有時(shí)不均勻。膜的反面也進(jìn)行處理，有時(shí)是為了避免工藝的要求。此外，電暈處理獲得的表面張力不能長(zhǎng)時(shí)間保持穩(wěn)定，處理后的產(chǎn)品往往只能維持有限的時(shí)間。大氣等離子體在大氣壓下產(chǎn)生。大氣等離子體處理技術(shù)因其成本低、性能好而被廣泛應(yīng)用于真空等離子體和電暈工藝的替代和改進(jìn)。

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