關(guān)于毒性和副作用：濕化學(xué)水處理溶液和酸具有極強(qiáng)的毒性和副作用，二氧化硅plasma蝕刻機(jī)等離子體清洗反應(yīng)所需的大部分空氣環(huán)境是無(wú)毒的。長(zhǎng)時(shí)間使用等離子清洗不會(huì)傷害相關(guān)人員的身體或身體。與傳統(tǒng)的化學(xué)水處理相比，等離子有幾個(gè)特點(diǎn)。等離子體基于使用電來(lái)催化化學(xué)物質(zhì)。等離子體變化而不是熱量，導(dǎo)致超低溫環(huán)境。等離子解決了濕法化學(xué)水處理的風(fēng)險(xiǎn)，是獨(dú)一無(wú)二的。與清洗相比，清洗后沒(méi)有廢水。

清潔和恢復(fù)活力的方法有很多，二氧化硅plasma蝕刻機(jī)化學(xué)溶劑一直是最受歡迎的選擇，但超過(guò) 50% 的揮發(fā)性有機(jī)化合物 (VOC) 排放是由于使用溶劑造成的。表面能是保證附著力和附著力的關(guān)鍵因素。涂層是否具有粘附到基材所需的粘合強(qiáng)度很大程度上取決于表面能。良好的附著力需要對(duì)材料表面進(jìn)行超細(xì)清洗，并且固體材料的表面能高于液體的界面張力?；诨瘜W(xué)溶劑的預(yù)處理過(guò)程對(duì)環(huán)境有害，通常不健康，能耗和處置成本高。

與使用有機(jī)溶劑的傳統(tǒng)濕式洗滌器相比，二氧化硅plasma蝕刻機(jī)等離子清潔器與使用有機(jī)溶劑的傳統(tǒng)濕式洗滌器相比具有九大優(yōu)勢(shì)：下一道工序?？梢蕴岣哒麄€(gè)工藝線的加工效率。 2.等離子清洗可以讓用戶避免使用對(duì)人體有害的溶劑，同時(shí)也避免了被清洗物容易濕洗的問(wèn)題。 3.避免使用三氯乙烷和其他有害的消耗臭氧層物質(zhì)。因此，這種清洗方法是一種環(huán)保的綠色清洗方法。當(dāng)世界高度重視環(huán)境保護(hù)時(shí)，這一點(diǎn)變得越來(lái)越重要。四。

3、調(diào)整適當(dāng)?shù)恼婵斩龋哼m當(dāng)?shù)恼婵斩瓤梢栽黾与娮舆\(yùn)動(dòng)的平均自由程，二氧化硅等離子表面處理機(jī)器所以從電場(chǎng)中獲得的能量大，適合電離。此外，如果必須保持氧氣的流動(dòng)，真空度越高，氧氣的相對(duì)比例就越高，產(chǎn)生的活性粒子濃度也越高。但是，如果真空度太高，活性粒子的濃度反而會(huì)降低。四、氧氣流量的調(diào)節(jié)：氧氣流量大，活性粒子密度大，脫膠速度加快，但流量過(guò)大，離子復(fù)合概率增加，電子平均自由程增加。運(yùn)動(dòng)會(huì)更短，電離強(qiáng)度也會(huì)降低。

二氧化硅等離子表面處理機(jī)器

展開(kāi)泰勒級(jí)數(shù)中的方程（1-6）并采用二次近似來(lái)執(zhí)行以下操作： NE (R) = NEO [1 + E & PHI; (R) / KTE] (1-7) 方程(1-7) 代入賦值方程(1-5)，得到以下方程。將其代入泊松方程得到以下方程：如圖1-1所示，半徑稱為德拜球。德拜球外的庫(kù)侖勢(shì)可以忽略不計(jì)。德拜長(zhǎng)度的物理意義引用如下。 (1) 等離子體對(duì)作用在其上的電位有屏蔽作用，屏蔽半徑為德拜長(zhǎng)度。

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