等離子體中的離子作為純粹的物理碰撞,材料表面的原子或附加表面的材料,因?yàn)槠骄鶋毫^低的離子自由基更輕,很多的積累能量,當(dāng)物理影響,離子能量較高,一些影響越多,所以如果要以物理反應(yīng)為主,鹽霧試驗(yàn)與附著力就要控制好反應(yīng)的壓力,這樣清洗效果才會(huì)更好。。等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要由兩部分組成:一是等離子發(fā)生器,由集成電路、運(yùn)行控制、等離子發(fā)生器電源、氣源處理、安全保護(hù)等組成。二是等離子體處理裝置,它由激發(fā)電極、激發(fā)氣路等組成。
據(jù)了解,耐鹽霧試驗(yàn)附著力不合格等離子清洗可能成為清洗方法中最徹底的清洗技術(shù)。那么清洗得如此徹底的等離子清洗是否會(huì)產(chǎn)生輻射呢?答案是肯定的。但是它產(chǎn)生的輻射非常小,相當(dāng)于我們使用手機(jī)時(shí)的輻射,不會(huì)破壞周圍的環(huán)境,更不會(huì)傷害我們的人體,所以等離子清洗機(jī)可以放心使用。有些人會(huì)懷疑等離子清洗機(jī)常用的氣體是否有毒?這里首先要知道,等離子清洗機(jī)的過程中常用到氬氣、氮?dú)夂脱鯕?。這些氣體是無毒的。
依據(jù)高(3-26)能電子能量不同,耐鹽霧試驗(yàn)附著力不合格碰撞導(dǎo)致乙烷分子動(dòng)能或內(nèi)能增加,后者使乙烷的C-H、C-O 鍵斷裂,生成各種自由基:C2H6 + e* → C2H5 + H + e (3-27)C2H6 + e* → 2CH3 + e (3-28)根據(jù)表3-1中化學(xué)鍵解離能數(shù)據(jù),反應(yīng)式(3-28)(C-C鍵斷裂)比反應(yīng)式(3-27)(C-H鍵斷裂)更易進(jìn)行。
等離子體的粒子類型和濃度的變化促進(jìn)了等離子體的化學(xué)反應(yīng)。只有當(dāng)分子的能量超過活化能時(shí),耐鹽霧試驗(yàn)附著力不合格化學(xué)反應(yīng)才會(huì)發(fā)生。在傳統(tǒng)化學(xué)中,這種能量是通過分子之間或分子與分子壁之間的碰撞來傳遞的。
耐鹽霧試驗(yàn)附著力不合格
利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
鹽霧試驗(yàn)與附著力