電子流量計采用美國進口，CCP等離子體清洗機模擬量輸入輸出。范圍為0～200 SCCM，可在該范圍內無級調節(jié)。根據(jù)特殊制造工藝的要求，PLC 可用于執(zhí)行 PID。通過調節(jié)質量流量計，可以控制真空度?？筛鶕?jù)特殊制造工藝要求選用干泵、廢氣處理設備、濾油器、濾油回油設備等。采用高等離子清洗機的電極結構設計，高等離子均勻性和可靠性。

產(chǎn)生射頻場的方法有很多，CCP等離子體清洗機射頻場能量耦合效率和等離子體均勻性高度依賴于射頻激勵電極、線圈或天線的設計。工業(yè)中使用的兩種典型的射頻等離子體發(fā)生器是圖（A）所示的電容耦合等離子體（capacitively Coupled plasma，CCP）發(fā)生器和電感耦合等離子體（Inductively Coupled Plasma，ICP）發(fā)生器或轉耦合等離子體（TRANSFORMER）。

一般來說，CCP等離子體清洗機鍺蝕刻具有高縱橫比和多層結構。在蝕刻過程中需要許多方法來保持良好的圖案轉移?；诼龋?00W，200sccm，ER ~ 200?/s）的蝕刻不會損壞邊界界面（側邊界網(wǎng)格保持完整）。這對于高性能設備非常重要，并且可以避免損壞電網(wǎng)的后續(xù)修復。雖然蝕刻本身難度較大，但事實證明，側壁圖案的控制不足，無法獲得約 75° 的圖案角度，難以滿足實際需要。

2、低溫等離子發(fā)生器原理 等離子發(fā)生器是通過低壓放電（輝光、電暈、高頻、微波等）產(chǎn)生的電離氣體。在電場的作用下，CCP等離子體清洗機氣體中的自由電子從電場中獲得能量，成為高能電子。這些高能電子與氣體中的分子和原子發(fā)生碰撞。如果電子能量大于分子或原子的激發(fā)能，則產(chǎn)生受激分子或受激原子。按基地。不同能量的離子、來自恒星的輻射、冷等離子體中的活性粒子（可以是化學活性氣體、稀有氣體或金屬元素氣體）的能量一般為CC或其他C鍵。債券。

CCP等離子體去膠設備

在薄膜生長的早期階段，銅薄膜以島狀生長方式沉積在基板表面，因為銅原子的聚集顆粒的尺寸受限于較低的沉積溫度作為銅顆粒的數(shù)量.板面增加，它們相互連接，最終形成連續(xù)的銅膜。。原材料短缺，PCB行業(yè)又要了！原材料短缺，PCB行業(yè)又要了！ 01 上游短缺 PCB制造的基礎材料是CCL（COPPERCLADLAMINATE覆銅板），上游主要是銅箔、玻璃纖維布、環(huán)氧樹脂等原材料。

冷等離子功率整流器不需要 VCC 來提供電路轉換所需的瞬態(tài)電流，電容器代表的功率很小。因此，電源端和接地端的寄生電感被旁路，在這段時間內，沒有電流流過寄生電感，因此不會產(chǎn)生感應電壓。通常，將兩個或多個電容器并聯(lián)放置，以降低電容器本身的串聯(lián)電感，從而降低電容器充電和放電回路的阻抗。注意：電容放置、器件間距、器件模式、電容選擇。

自動等離子清洗機的等離子離子和電離度 自動等離子清洗機的等離子離子和電離度 一般來說，組成自動等離子清洗機的等離子體的基本粒子是電子、離子和中性粒子。設 Ne 為電子密度，Nj 為離子密度，Ng 為中性粒子密度。顯然，對于單一大氣中只有一次電離的等離子體，有Ne=Ni，n可以用來表示任一帶電離子的密度，稱為等離子體密度。

大氣壓等離子清洗機的熱噴涂技術是所有熱噴涂技術中最靈活的，可以產(chǎn)生足夠的能量來熔化材料。由于使用空氣等離子清潔劑噴涂粉末作為涂層材料，因此空氣等離子清潔劑噴涂技術可以使用的涂層材料數(shù)量幾乎是無限的。流動的工藝氣體（通常是氬氣（通常是氬氣、氮氣、氫氣和氦氣的混合物））在陽極氧化過程（噴頭）和負極（電極階段）之間被電離成一股熱等離子體。

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真空等離子清洗機產(chǎn)品特點： 1.環(huán)保技術：等離子法是氣相干法反應，CCP等離子體清洗機不消耗水資源，不添加化學試劑，不污染環(huán)境。 2、適用性：無論處理方式如何，都可以對被處理的基材類型進行適當?shù)奶??理，如金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)聚合物。

等離子體的高能量分解材料表面的化學物質和有機污染物，CCP等離子體清洗機有效去除所有能阻止粘附的雜質，使材料表面達到所需的條件。后續(xù)涂裝工藝。等離子清洗設備等離子表面處理設備應用技術可用于對塑料、金屬、玻璃和纖維等多種材料進行表面活化。處理過的表面的涂層和粘合都是有效活化材料表面的必要工藝步驟。