LED等離子體清洗機(jī)功能：1、表面清洗：清洗金屬表面的油脂、油污、肉眼看不到的油脂顆粒等有機(jī)物和氧化層，附著力促進(jìn)劑A218無機(jī)氣被激發(fā)成等離子態(tài)，氣態(tài)物質(zhì)吸附在固體的表面。2、表面蝕刻：由于處理氣體的作用，被蝕刻物將變成氣相排放。3、表面改性：以PTFE為例，未經(jīng)處理不得印刷或粘接。采用等離子處理可使表面大程度地同時(shí)形成一個(gè)活性層，使PTFE能夠進(jìn)行粘接，打印操作。

真空等離子裝置的特點(diǎn)適用于清洗醫(yī)用導(dǎo)管、輸液器、培養(yǎng)板，金屬表面附著力促進(jìn)劑批發(fā)真空等離子裝置的兩個(gè)金屬電極利用進(jìn)口真空泵產(chǎn)生電場(chǎng)并達(dá)到相應(yīng)的真空度。隨著氣體變得越來越稀薄，分子之間的距離和分子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來越小。由于磁場(chǎng)的作用，碰撞產(chǎn)生等離子體，同時(shí)產(chǎn)生光。等離子體在電場(chǎng)空間中起作用，使待處理物體的表面過渡，去除表面的油污和氧化物，并用機(jī)器等化學(xué)物質(zhì)焚燒表面。

由于接觸孔層在集成電路中的重要作用，附著力促進(jìn)劑A218在接觸孔等離子刻蝕工藝中，工藝集成是接觸孔尺寸、尺寸均勻性、接觸孔側(cè)壁形狀、等離子刻蝕的關(guān)鍵對(duì)工藝停止層選擇性、金屬硅酸鹽消耗、接觸孔高度均勻性以及確保所有接觸孔開放的要求越來越嚴(yán)格。以提高產(chǎn)量。在接觸孔技術(shù)工藝集成的發(fā)展過程中，兩個(gè)關(guān)鍵的里程碑是65nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)已經(jīng)開始使用NiSi（金屬鎳硅化物）作為接觸金屬，而不是之前的CoSi（金屬鈷硅化物）來降低電阻。

同時(shí)，金屬表面附著力促進(jìn)劑批發(fā)通過真空泵將污染物去除，清洗程度可達(dá)到分子水平。等離子體是由威廉·克魯克斯爵士于1879年發(fā)現(xiàn)的。而等離子清洗機(jī)應(yīng)用于工業(yè)，從20世紀(jì)初開始。而隨著等離子體物理研究的發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣泛，已成為許多高科技領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)。等離子清洗技術(shù)對(duì)工業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明的影響最大，特別是對(duì)電子信息產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的影響最大。目前應(yīng)用比較廣泛的是物理清洗和化學(xué)清洗方法，大致可分為濕式清洗和干洗兩大類。

金屬表面附著力促進(jìn)劑批發(fā)

年級(jí)顏色SiO2 厚度標(biāo)尺（埃） Si3N4 厚度標(biāo)尺（埃）硅的性質(zhì)0-270 0-200棕色的270-530 200-400金黃色530-730 400-500紅色的730-970 550-730深藍(lán)970-0 730-770頂循環(huán)藍(lán)色的0-1200 770-930灰藍(lán)1200-1300 930-0深灰藍(lán)色1300-1500 0-1硅的性質(zhì)1500-1600 1 -1200亮黃的1600-1700 1200-1300黃色的1700-2000 1300-1500橙2000-2400 1500-1800紅色的2400 -2500 1800-1900深紅2500-2800 1900-2第二個(gè)周期藍(lán)色的2800-3 2 -2300藍(lán)綠色3-3300 2300-2500淺綠色3300-3700 2500-2800橙3700-4000 2800-3000紅色的4000-4400 3000-3300從上表可以看出，理論上很多顏色可以通過薄膜干涉來鍍。

成長(zhǎng)性大于周期性，競(jìng)爭(zhēng)格局高度集中 過去20多年穩(wěn)定增長(zhǎng)，年均增速8% 半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)規(guī)模，1992年僅為81億美元，1995-2003年穩(wěn)定在200-300億美元，2004-2016年穩(wěn)定在300-400億美元，2017-2018年攀升至550-650億美元，1992-2018年全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模年均增長(zhǎng)8%，整體上呈階段性成長(zhǎng)趨勢(shì)。

不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，超聲等離子體的自偏壓為 0V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對(duì)被清潔表面產(chǎn)生的影響最大，因而實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。

此外，低的偏置功率/源功率的比率也可以改善第二種條紋現(xiàn)象，因?yàn)槠霉β手饕刂频氖堑入x子體中的離子加速度，源功率控制的是等離子體的濃度，較低的偏置功率可以減小離子的轟擊能量，而高的源功率將增加大氣等離子清洗機(jī)等離子體的密度，使得離子自身之間的碰撞比例增加，減弱了等離子體的方向性，同時(shí)也減弱了等離子體的物理轟擊效果；同時(shí)，高的源功率亦分解出更多的[C]，將產(chǎn)生更多的聚合物，堆積在光刻膠表面，保護(hù)光刻膠免受等離子體的轟擊。

金屬表面附著力促進(jìn)劑批發(fā)

使用該技術(shù)可以有效清潔塑料件表面的油污，附著力促進(jìn)劑A218增加其表面活性，即可以提高硬盤件的粘接效果。。等離子清洗機(jī)在攝像頭模組行業(yè)的應(yīng)用隨著高性能結(jié)構(gòu)材料技術(shù)和先進(jìn)材料加工技術(shù)的快速發(fā)展，人們對(duì)材料的韌性或剛性、環(huán)保性、回收利用和使用壽命提出了更高的要求。因此，近年來通過表面處理改變材料的表面形貌、化學(xué)成分和微觀結(jié)構(gòu)來改善材料的性能得到了迅速發(fā)展。

運(yùn)行 PLASMA 等離子清洗機(jī)時(shí)的注意事項(xiàng)： 1.正確設(shè)置等離子設(shè)備的運(yùn)行參數(shù)，金屬表面附著力促進(jìn)劑批發(fā)并按照使用說明書運(yùn)行設(shè)備。 2.保護(hù)等離子體。點(diǎn)火系統(tǒng)確認(rèn)等離子清洗機(jī)可以正常啟動(dòng)； 3.關(guān)于等離子設(shè)備開機(jī)前的準(zhǔn)備工作，需要對(duì)相關(guān)人員進(jìn)行培訓(xùn)，同時(shí)確保操作等離子清洗機(jī)的人員能夠準(zhǔn)確地進(jìn)行各種操作； 4.如果一次風(fēng)道不通風(fēng)，等離子發(fā)生器的運(yùn)行時(shí)間不能超過設(shè)備說明書要求的時(shí)間，以免燒壞燃燒器，造成不必要的損失。